事涉“光刻機(jī)”!一則回復(fù)暴拉20% 市場影響惡劣 交易所出手了!

    2023-10-13 09:14 | 來源:證券時(shí)報(bào)網(wǎng) | 作者:俠名 | [上市公司] 字號(hào)變大| 字號(hào)變小


    此“光刻”非彼“光刻”的誤導(dǎo)性陳述始于上市公司在互動(dòng)易平臺(tái)的系列表述。“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售,并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家出口”、“公...

            因涉及“光刻機(jī)”誤導(dǎo)性陳述,蘇大維格正在被追責(zé)。

            10月12日晚間,蘇大維格(300331)披露深交所關(guān)注函,公司在互動(dòng)易平臺(tái)對(duì)投資者提問的有關(guān)“光刻機(jī)”相關(guān)回復(fù)受到媒體和投資者廣泛質(zhì)疑,并引起股價(jià)大幅波動(dòng),涉嫌存在不真實(shí)、不準(zhǔn)確、不完整情形及誤導(dǎo)性陳述,市場影響惡劣,交易所將對(duì)蘇大維格及相關(guān)違規(guī)當(dāng)事人啟動(dòng)紀(jì)律處分程序。

            此“光刻”非彼“光刻”

            此“光刻”非彼“光刻”的誤導(dǎo)性陳述始于上市公司在互動(dòng)易平臺(tái)的系列表述。“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售,并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國、以色列等國家出口”、“公司已關(guān)注到納米壓印光刻在集成電路和芯片制造領(lǐng)域具備替代傳統(tǒng)光刻的應(yīng)用潛力,并在積極布局”,蘇大維格9月14日午間的上述表示,直接引得市場將其歸入“光刻機(jī)”概念股,投資者情緒被點(diǎn)燃。

            當(dāng)日午間開盤后,蘇大維格即獲大幅拉升并斬獲20%漲停,股價(jià)收于33.12元/股,當(dāng)天成交額達(dá)到15.55億元。

            9月15日一早,深交所便向蘇大維格下發(fā)關(guān)注函,要求公司補(bǔ)充披露所生產(chǎn)光刻設(shè)備的具體類型、主要客戶及下游用途,以及最近一年一期境內(nèi)外銷售情況,并核實(shí)說明公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造、主要技術(shù)參數(shù)是否與業(yè)內(nèi)龍頭廠商存在較大差距,并進(jìn)一步提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。

            當(dāng)天晚間,蘇大維格披露了線上中報(bào)業(yè)績說明會(huì)的紀(jì)要,其中對(duì)光刻設(shè)備問題有所回應(yīng)。公告稱,公司高端智能裝備包括直寫光刻、3D 光刻、投影/掃描光刻、納米壓印光刻設(shè)備等,部分直寫光刻設(shè)備已向國內(nèi)外高校及科研院所、國內(nèi)企業(yè)等銷售。現(xiàn)階段,公司光刻設(shè)備銷售規(guī)模相對(duì)有限,部分應(yīng)用領(lǐng)域離國際先進(jìn)水平具有一定差距,需要持續(xù)的研發(fā)投入。

            更多的業(yè)務(wù)細(xì)節(jié)則在問詢函回復(fù)中才解開。10月8日晚間,蘇大維格詳細(xì)回復(fù)了相關(guān)問題。

            據(jù)介紹,光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、顯示面板、光電子等領(lǐng)域的產(chǎn)品制造過程中不可或缺的工藝流程之一。從曝光方式上,光刻機(jī)可以分為掩模光刻機(jī)(在運(yùn)行過程中均需要使用掩模板),包括接觸式/接近式光刻機(jī),投影式光刻機(jī)(如DUV和EUV)等;以及無掩模光刻機(jī),即直寫光刻機(jī),包括電子束光刻機(jī)、激光直寫光刻機(jī)、激光直接成像設(shè)備(LDI)等。半導(dǎo)體及平板顯示制造普遍采用“直寫光刻制作掩模+投影光刻批量復(fù)制”的工藝過程。

            蘇大維格坦言,一般所稱的光刻機(jī)是有掩模光刻機(jī)中的投影式光刻機(jī),與公司所生產(chǎn)的激光直寫光刻機(jī)不屬于同一技術(shù)路線。公司自2001年左右開始研發(fā)各類光刻設(shè)備,包括激光直寫光刻機(jī)、納米壓印設(shè)備等,前述設(shè)備主要用于微納光學(xué)產(chǎn)品和衍射光學(xué)器件的制造,公司所生產(chǎn)的光刻設(shè)備目前不涉及集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)。

            具體看主要客戶及下游用途情況,蘇大維格開發(fā)生產(chǎn)的激光直寫光刻設(shè)備是一種多用途的設(shè)備,目前主要是自用,公司對(duì)外銷售的金額較小,2022年實(shí)現(xiàn)對(duì)外銷售收入約770.93萬元,2023年上半年實(shí)現(xiàn)對(duì)外銷售收入約2177.27萬元,客戶主要包括兩類:第一類是高校和科研院所,其采購公司光刻設(shè)備主要是用作相關(guān)領(lǐng)域的研究。第二類客戶是除高校和科研院所外的其他客戶,主要包含各類企業(yè)客戶,其采購公司光刻設(shè)備主要用于其部分產(chǎn)品的研發(fā)及小批量試制、微納光學(xué)材料及光通訊器件的制作等領(lǐng)域。

            從銷售區(qū)域來看,蘇大維格光刻設(shè)備收入以境內(nèi)為主。2022年境外收入為310.09萬元,2023年上半年為0。

            就公司光刻設(shè)備是否能夠直接用于芯片研發(fā)及制造,蘇大維格表示,公司光刻設(shè)備目前不涉及集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn),這部分市場被行業(yè)龍頭公司主導(dǎo)和壟斷。公司光刻設(shè)備主要為自用于各類微納光學(xué)產(chǎn)品和衍射光學(xué)器件的制造,對(duì)外銷售金額較小,外部客戶采購主要用于相關(guān)領(lǐng)域的研發(fā)、試制和微納光學(xué)材料等生產(chǎn)。公司激光直寫光刻設(shè)備在最小線寬、線寬均勻度、網(wǎng)格精度、穩(wěn)定性等關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)與同行業(yè)龍頭公司相比存在較大差距。

            涉嫌信披違規(guī)被立案

            在監(jiān)管問詢下,蘇大維格在回復(fù)函中還進(jìn)行了致歉。公司證券部門在回復(fù)相關(guān)互動(dòng)易問題時(shí),直接使用了“光刻機(jī)”、“龍頭芯片公司”等可能引起誤解的表述,未能充分考慮到部分投資者可能對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)路線、相關(guān)技術(shù)的具體應(yīng)用領(lǐng)域等情況不了解,未詳細(xì)說明公司光刻設(shè)備的具體類型,公司主要的應(yīng)用領(lǐng)域,與行業(yè)龍頭企業(yè)的差距,以及客戶主要用途等信息;也未說明相關(guān)設(shè)備收入占公司收入比重較低,未充分提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。

            就前述回復(fù)引起了部分投資者誤會(huì)和誤解,并導(dǎo)致公司股價(jià)發(fā)生較大波動(dòng),對(duì)此,公司及公司證券部門誠懇向投資者表示歉意,并將積極吸取經(jīng)驗(yàn)教訓(xùn),進(jìn)一步完善相關(guān)制度和程序等。

            此番問詢函回復(fù)披露之際,蘇大維格還披露收到證監(jiān)會(huì)的立案通知。立案告知書顯示,因蘇大維格涉嫌信息披露違法違規(guī),中國證監(jiān)會(huì)決定對(duì)蘇大維格立案調(diào)查。

            蘇大維格表示,立案調(diào)查期間,公司將積極配合中國證監(jiān)會(huì)的調(diào)查工作,并嚴(yán)格按照監(jiān)管要求履行信息披露義務(wù)。目前,公司各項(xiàng)生產(chǎn)經(jīng)營活動(dòng)正常開展。

            二級(jí)市場上,蘇大維格近期股價(jià)震蕩下跌,現(xiàn)價(jià)24.82元/股,已跌回前述“光刻機(jī)”概念狂歡前水平。

    電鰻快報(bào)


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